Auswirkungen der Kontaktierung von isotropen und anisotropen Materialien auf die elektromagnetische Schirmdämpfung von Gehäusen

72.77 €

Order
Auswirkungen der Kontaktierung von isotropen und anisotropen Materialien auf die elektromagnetische Schirmdämpfung von Gehäusen
https://cuvillier.de/de/shop/publications/8872-auswirkungen-der-kontaktierung-von-isotropen-und-anisotropen-materialien-auf-die-elektromagnetische-schirmdampfung-von-gehausen Im Zuge der Elektrifizierung des Antriebsstrangs im Automobilbereich wird die Elektromagnetische Verträglichkeit (EMV) mit neuen Herausforderungen konfrontiert. Diese Herausforderungen umfassen beispielsweise die vollständige Schirmung des gesamten HV-Systems wie der HV-Batterie, der elektrischen Maschine und der Leistungselektronik. Die vorliegende Arbeit befasst sich daher mit der elektromagnetischen Schirmdämpfung auf Material- und Gehäuseebene für isotrope und anisotrope Werkstoffe. Es werden Messverfahren, analytische Modelle sowie numerische Verfahren für den spezifischen Anwendungsfall analysiert und optimiert bzw. angepasst. Auf Gehäuseebene wird speziell der Einfluss der Kontaktierung durch die charakteristischen Parameter, wie den Abstand oder die Anzahl der Kontaktierungspunkte im Impedanz- und Schirmdämpfungsspektrum, nachgewiesen und diskutiert.

More from the series "Energie & Nachhaltigkeit"

More books by Michael Kühn

Log in to get access to this book and to automatically save your books and your progress.

Purchase this book or upgrade to dav Pro to read this book.

When you buy this book, you can access it regardless of your plan. You can also download the book file and read it in another app or on an Ebook reader.

80 % of the price goes directly to the author.

ISBN: 9783736978676

Language: German

Publication date: 08.08.2023

Our shipping costs are a flat rate of €2.50, regardless of the order.
Currently, we only ship within Germany.

Shipping is free for PocketLib Pro users.

An error occured. Please check your internet connection or try it again later.