Mehrkomponenten Targets zum Sputtern von AlCr(W, Ta, Si)N-Systemen

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Mehrkomponenten Targets zum Sputtern von AlCr(W, Ta, Si)N-Systemen
Diese Dissertation befasst sich mit der pulvermetallurgischen Herstellung innovativer PVD-Targetwerkstoffe zur Abscheidung von AlCrN-Hartstoffschichten mit Zugaben von Wolfram, Tantal und Silizium. Es werden Wechselwirkungen zwischen der chemischen Zusammensetzung und der Phasenkomposition der hergestellten Targets und deren Einfluss auf die tribo-mechanischen Schichteigenschaften der abgeschiedenen Dünnschichtsysteme.Die Ergebnisse zeigen das Potenzial der pulvermetallurgischen Targetproduktion mit Refraktärmetallen für die Entwicklung von Cr-basierten Nitridschichten mit Härten von bis zu 40 GPa.

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ISBN: 9783802788321

Language: German

Publication date: 08.11.2023

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